4nm至40nm的多个波长

EUV光刻机，这一代表着半导体制造领域高精尖技术的设备，其研发历程可谓历尽艰辛，技术难度极高。从上世纪80年代开始，EUV光源的研发就吸引了全球科研人员的目光。当时，科研人员致力于探索4nm至40nm的多个波长，力求找到最适合光刻技术的光源。与此同时，电子束光刻机、离子束光刻等技术也在同步研发中，各种技术路线竞争激烈。